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1064nm 10nm帶通濾光片

1064nm 10nm帶通濾光片

更新時間:2020-04-16

廠家性質(zhì):生產(chǎn)廠家

訪問量:2645

產(chǎn)品特點:帶通濾光片是使特定波長的光透過,使其他波段的光反射(或衰減)的光學(xué)元件。工作區(qū)域可以是紫外光波段、可見光波段、近紅外光波段、遠(yuǎn)紅外光波段,可依照客戶的應(yīng)用范圍而定。

產(chǎn)品詳細(xì)資料:

1064nm 10nm帶通濾光片

帶通濾光片都是在特定的波段允許光信號通過,而偏離這個波段以外的兩側(cè)光信號就被阻止了,它的通帶相對來說都是比較寬的,一般半帶寬都是在40nm以上!而該產(chǎn)品是在帶通濾光片中分出來的,是屬于帶通濾光片的一種,它的定義跟帶通濾光片是一樣的,都是在特定的波段允許光信號通過,而偏離這個波段以外的兩側(cè)光信號就被阻止了,但是窄濾光片是相對來說是比較窄的。

蒸發(fā)沉積
 
在蒸發(fā)沉積時,真空室中的源材料受到加熱或電子束轟擊而蒸發(fā)。蒸氣冷凝在光學(xué)表面上。在蒸發(fā)期間,通過**控制加熱,真空壓力,基板定位和旋轉(zhuǎn)可以制造出具有特定厚度的均勻光學(xué)鍍膜。 蒸發(fā)具有相對溫和的性質(zhì),會使鍍膜變得松散或多孔。 這種松散的鍍膜具有吸水性,改變了膜層的有效折射率,將導(dǎo)致性能降低。通過離子束輔助沉積技術(shù)可以增強蒸發(fā)鍍膜,在該過程中,離子束會對準(zhǔn)基片表面。這增加了源材料相對光學(xué)表面的粘附性,產(chǎn)生更多應(yīng)力,使得鍍膜更致密,更耐久。
 
離子束濺射(IBS)
 
在離子束濺射(IBS)時,高能電場可以加速離子束。 這種加速度使得離子具有顯著的動能。在與源材料撞擊時,離子束會將靶材的原子“濺射”出來。 這些被濺射出來的靶材離子(原子受電離區(qū)影響變?yōu)殡x子)也具有動能,會在與光學(xué)表面接觸時產(chǎn)生致密的膜。 IBS是一種**的,重復(fù)性強的技術(shù)。
 
等離子體濺射
 
等離子體濺射是一系列技術(shù)的總稱,例如**等離子體濺射和磁控管濺射。不管是哪種技術(shù),都包括等離子體的產(chǎn)生。等離子體中的離子經(jīng)加速射入源材料中,撞擊松散的能量源離子,然后濺射到目標(biāo)光學(xué)元件上。 雖然不同類型的等離子體濺射具有其*的性質(zhì)和優(yōu)缺點,不過我們可以將這些技術(shù)集合在一起,因為它們具有共同的工作原理,它們之間的差異,相比這種鍍膜技術(shù)與本文中涉及的其他鍍膜技術(shù)之間的差異小得多。
 
原子層沉積
 
與蒸發(fā)沉積不同,用于原子層沉積(ALD)的源材料不需要從固體中蒸發(fā)出來,而是直接以氣體的形式存在。 盡管該技術(shù)使用的是氣體,真空室中仍然需要很高的溫度。 在ALD過程中,氣相前驅(qū)體通過非重疊式的脈沖進行傳遞,且脈沖具有自限制性。 這種工藝擁有*的化學(xué)性設(shè)計,每個脈沖只粘附一層,并且對光學(xué)件表面的幾何形狀沒有特殊要求。 因此這種工藝使得我們可以高度的對鍍層厚度和設(shè)計進行控制,但是會降低沉積的速率。
 
 
鍍膜工藝
 
不同的鍍膜沉積技術(shù),具有各自的優(yōu)缺點。瑞研光學(xué)可以采用不同的鍍膜沉積技術(shù)為您服務(wù)。 請聯(lián)系瑞研光學(xué),告訴我們哪種鍍膜技術(shù)適合您的應(yīng)用。

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