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磁控濺射鍍膜超窄帶濾光片
更新時(shí)間:2020-04-16
廠家性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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產(chǎn)品特點(diǎn):濺射鍍膜是在真空條件下,利用荷能粒子轟擊靶表面,使被轟擊出的粒子在基片上沉積的技術(shù)。濺射鍍膜具有膜層和基體的附著力強(qiáng),膜層均勻性好等優(yōu)點(diǎn),適合各種金屬、氧化物、半導(dǎo)體薄膜的制備,廣泛應(yīng)用于光伏、LED、微電子、硬質(zhì)薄膜等領(lǐng)域。656nm磁控濺射鍍膜超窄帶濾光片
656nm磁控濺射鍍膜超窄帶濾光片
濺射鍍膜是在真空條件下,利用荷能粒子轟擊靶表面,使被轟擊出的粒子在基片上沉積的技術(shù)。濺射鍍膜具有膜層和基體的附著力強(qiáng),膜層均勻性好等優(yōu)點(diǎn),適合各種金屬、氧化物、半導(dǎo)體薄膜的制備,廣泛應(yīng)用于光伏、LED、微電子、硬質(zhì)薄膜等領(lǐng)域。
一般情況下,絕大多數(shù)超窄帶濾光片,帶寬<2nm成品率較低,價(jià)格也較高,2-5nm的帶寬為絕大多數(shù)超窄帶濾光片工業(yè)用戶的批量采購(gòu)選擇。
超窄帶濾光片其主要參數(shù)有:中心波長(zhǎng)、半高寬(帶寬)、峰值透過率、截止范圍、截止深度(OD值)
中心波長(zhǎng):一般就是儀器或設(shè)備的工作波長(zhǎng),它是指通帶中心位置的波長(zhǎng)。
半高寬(帶寬):帶寬是指通帶中透過率為峰值透過率的一半的兩個(gè)位置之間的距離,有時(shí)也叫半高寬(不叫半帶寬),英文字母經(jīng)常用FWHM(Full Width at Half Maximum)表示。
峰值透過率:指帶通濾光片在通帶中zui高的透過率大小。
截止范圍:截止范圍是指除了通帶以外,要求截止的波長(zhǎng)范圍。對(duì)于窄帶來說,有一段是前截止,就是截止波長(zhǎng)小于中心波長(zhǎng)的一段,還有一段長(zhǎng)截止,截止波長(zhǎng)高于中心波長(zhǎng)的那一段。
截止深度(OD值):截止深度是指截止帶中允許能透過光的大透過率大小。對(duì)不同的應(yīng)用系統(tǒng)對(duì)截止深度要求不同,比如對(duì)于使用在激發(fā)光熒光的場(chǎng)合,一般要求截止深度在T<0.001%以下,在普通的監(jiān)控識(shí)別系統(tǒng)中,截止深度T<0.5%有時(shí)已經(jīng)足夠。為簡(jiǎn)便起見,經(jīng)常用OD值來表示截止深度。OD=-lgT
用途:機(jī)器視覺、生化分析、光學(xué)儀器、光譜測(cè)量等領(lǐng)域
類型:一般瑞研光學(xué)可做200nm-2000nm以內(nèi)的任意個(gè)波長(zhǎng),透過率大于70%以上,如果是磁控濺射鍍膜,透過率大于90%;
截止深度有OD4-OD6;大于OD6成品率較低,可提供小批量定制服務(wù)
中心波長(zhǎng)656nm
中心波長(zhǎng)偏差:±1nm
帶寬2nm;3nm;4nm;5nm
直徑12.7mm,12.5mm,25mm,30mm等
厚度1mm;2mm;2.5mm
外環(huán)封裝厚度3.5mm,5mm,6mm
透過率大于80%;大于90%
截止范圍200-800nm;200-1000nm;200-1200nm
截止深度大于OD4;大于OD5;>OD6
典型超窄帶光譜曲線
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